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  1. 介绍了减反射、抗静电干扰镀膜,讨论了减反射膜系列和镀膜机。
  2. 氟化镁镀膜技术已经广泛用于透镜了.
  3. 早期的版本没有这些先进的镀膜并且没有这样的亮度对比度。
  4. 附注:以上所有偏光片皆可加上镀膜处理。
  5. 在中长波红外区域,通常使用的镀膜材料都存在相当大的色散和一定的吸收。
  6. 用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.
  7. 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。
  8. 通过生产实践,获得了低拉引速度下产品质量好,生产周期较长的最佳镀膜工艺参数。
  9. 采用这种方法的逆运算形式,应用计算机辅助计算和检测技术,在国内首次完成对多层光学薄膜镀膜后或制备过程中各膜层光学厚度的检测。
  10. 快速运行速度,良好的最高板厚,以及有多少单位和选择镀膜机是广泛。
  11. 它具有测量准确、反应速度快、非接触等特点,尤其适用于测量真空镀膜中基板的温度。