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  1. 真空室内的气体等离子体可由热灯丝或射频放电产生,4另外还配置了4个金属等离子体源、两套磁控溅射靶和冷却靶台。
  2. 磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.
  3. 也可以单独作为磁控溅射或多弧离子镀膜机使用。